原子/分子尺度光与物质相互作用研究不仅是探索未知物理世界的科学前沿，也是发展纳米尺度光基技术的基础。但是，光波长（数百纳米）与原子/分子（单纳米/亚纳米级）之间显著的尺寸失配极大制约光与物质相互作用强度及效率。金属表面等离激元结构能够突破衍射极限实现原子尺度光场局域及增强，同时具备电学兼容独特优势，在原子尺度光-电-物质相互作用前沿研究和纳米光电子器件应用中展现出重要潜力。在该报告中，将重点介绍我们最近在超薄金属膜和超薄金属间隙两类极端光场局域结构方面的研究进展：在超薄金属膜方面，我们发展了原子级精度化学刻蚀技术，实现了厚度低至1纳米的二维单晶金片的精准制备，结合近场扫描光学显微技术实现了对二维单晶金片中超强局域表面等离极化激元模式的直接成像与超快全光调控，进一步制备出损耗接近理论极限的二维金纳米结构，演示了其在增强原子尺度光与物质相互作用方面的独特优势；在超薄金属间隙方面，我们提出并制备了损耗接近理论极限的单晶等离激元纳腔，并在此基础上成功研制出光电融合等离激元纳腔，利用纳米间隙内的超强电场和超快电子隧穿效应实现了等离激元的高效电激发及调控。上述研究为探索原子尺度下的光-电-物质相互作用提供了新平台，同时也为等离激元器件小型化与集成化应用开辟了新路径。